bitDRAM 相关硕士博士期刊学术论文 - 搜论网

bitDRAM相关论文

256Mbit DRAM用的新掩模修正技术

日本电气公司开发和设计贴近的蚀刻图形,掩模修正技术可用于制造下一代256Mbit DRAM上.该法与以往使用的修正方法有所不同,这次研......

期刊

掩模 bit DRAM 修正技术日本电气公司半导体器件微细加工技术在原半导体结构半导体加工日本东京大学

4Gbit DRAM用的ArF准分子激光曝光技术

据日本《电子技术》1996年第8期报道，日本富士通公司为了1GbitDRAM的规模生产需要，开发了ArF准分子激光曝光技术，成功地形成了用于4Gb......

期刊

准分子激光 ArF bit DRAM 掩模富士通公司线宽环氧树脂类单元面积超高分辨率存储单元

看过本文同时还关注